Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung
Dissertationsschrift
In dieser Arbeit wurde eine auf einem Mikrospiegelarray basierende, maskenlose Lithographieanlage entwickelt und aufgebaut, mit welcher Einzelbilder nahtlos nebeneinander projiziert werden. Es wurden über Abformprozesse und direktlithographisch aus...
Voraussichtlich lieferbar in 3 Tag(en)
versandkostenfrei
Buch (Kartoniert)
Fr. 47.90
inkl. MwSt.
- Kreditkarte, Paypal, Rechnungskauf
- 30 Tage Widerrufsrecht
Produktdetails
Produktinformationen zu „Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung “
In dieser Arbeit wurde eine auf einem Mikrospiegelarray basierende, maskenlose Lithographieanlage entwickelt und aufgebaut, mit welcher Einzelbilder nahtlos nebeneinander projiziert werden. Es wurden über Abformprozesse und direktlithographisch aus verschiedenen Polymeren cm² grosse Mikrofluidikchips mit 50 µm Kanälen in wenigen Stunden hergestellt. Zudem wurden biochemische Ligandenmuster in 256 verschiedenen Dichtegraden in wenigen Sekunden auf 5 mm² Fläche mit wenige µm grossen Pixeln erzeugt.
Klappentext zu „Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung “
In dieser Arbeit wurde eine auf einem Mikrospiegelarray basierende, maskenlose Lithographieanlage entwickelt und aufgebaut, mit welcher Einzelbilder nahtlos nebeneinander projiziert werden. Es wurden über Abformprozesse und direktlithographisch aus verschiedenen Polymeren cm² grosse Mikrofluidikchips mit 50 µm Kanälen in wenigen Stunden hergestellt. Zudem wurden biochemische Ligandenmuster in 256 verschiedenen Dichtegraden in wenigen Sekunden auf 5 mm² Fläche mit wenige µm grossen Pixeln erzeugt.
Bibliographische Angaben
- Autor: Ansgar Waldbaur
- 2013, XVI, 163 Seiten, mit Abbildungen, Masse: 14,8 x 21 cm, Kartoniert (TB), Deutsch
- Verlag: KIT Scientific Publishing
- ISBN-10: 3731501198
- ISBN-13: 9783731501190
Kommentar zu "Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung"
0 Gebrauchte Artikel zu „Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung“
Zustand | Preis | Porto | Zahlung | Verkäufer | Rating |
---|
Schreiben Sie einen Kommentar zu "Entwicklung eines maskenlosen Fotolithographiesystems zum Einsatz im Rapid Prototyping in der Mikrofluidik und zur gezielten Oberflächenfunktionalisierung".
Kommentar verfassen